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STM and HREELS investigation of gas phase silanization on hydroxylated Si(100)

机译:STM和HREELS研究羟基化Si(100)上的气相硅烷化

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摘要

The gas phase anhydrous reaction of glycidoxypropyldimethylethoxysilane (GPDMES) with a model hydroxylated surface has been investigated using high-resolution electron energy loss spectroscopy (HREELS) and scanning tunneling microscopy (STM).Water dissociation on the clean reconstructed (2\ud71)-Si(100) surface was used to create an atomicallyflat surface with ~0.5 MLof hydroxyl groups. Exposure of this surface to GPDMES at room temperature under vacuum was found to lead to formation of covalent Si\u2013O\u2013Si bonds although high exposures (6\ud7108 L) were required for saturation. STM images at the early stages of reaction indicate that the reaction occurs randomly on the surface with no apparent clustering. The STM images together with semiempirical (AM1) calculations provide evidence for hydrogen bonding interactions between the oxygen atoms in the molecule and surface hydroxyl groups at low coverage.
机译:使用高分辨率电子能量损失谱(HREELS)和扫描隧道显微镜(STM)研究了具有模型羟基化表面的环氧丙氧基丙基二甲基乙氧基硅烷(GPDMES)的气相无水反应。 (100)表面用于创建具有〜0.5 ML羟基的原子平面。发现该表面在室温下在真空下暴露于GPDMES会导致形成共价Si \ u2013O \ u2013Si键,尽管饱和需要很高的暴露量(6 \ ud7108 L)。反应早期的STM图像表明,反应随机发生在表面上,没有明显的聚集。 STM图像与半经验(AM1)计算一起为分子中的氧原子与低覆盖率的表面羟基之间的氢键相互作用提供了证据。

著录项

  • 作者

    Fan, C.; Lopinski, G. P.;

  • 作者单位
  • 年度 2010
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类

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